隨著現代集成半導體器件、微電子等高科技企業的發展，半導體制造工序及技術的提升，以及產品制程線寬的縮小，尤其在其線寬進入45 nm 以下時，空氣中的氣態分子污染物（以下簡稱AMC）對高端半導體產品的品質影響日益顯現，常會引起產品的成品率下降、性能退化及失效，越來越多的半導體生產廠商意識到半導體AMC過濾材料的重要性。
國際半導體設備和材料協會在SEMI F21-95、F21-1102中給出了AMC氣體的分類體系。該標準適用于半導體業的潔凈環境，指定了4個“標準范圍”：酸(MA)，堿(MB)，冷凝物(MC)及雜質(MD)。具體如下：
電子行業中AMC 主要危害是引起人類各種疾病和造成產品良品率降低。一方面工作人員長期接觸導致各種疾病健康問題；另一方面在是產品良品率下降，導致質量問題，如有金屬薄膜腐蝕、光學器件霧化、表面濕潤性變化、光刻膠的T型缺陷、薄膜粘附問題和不均勻氧化物的生長等，使晶圓表面出現生成薄膜或造成腐蝕等問題，從而造成晶圓的電氣、光學、化學或物理特性改變而導致質量缺陷。圖 1展示了幾種晶圓生產過程中常見的污染的電鏡圖片。
對于化學過濾材料的質量評價可以依據C3E2標準，即吸附容量，適用性，潔凈度，過濾效率，壓損能耗五個指標。
1、吸附容量(Capacity)
吸附容量是反應化學過濾材料壽命的重要指標，指化學過濾材料的吸附能力在到達某個額定的過濾效率時，吸附污染物的總質量。吸附劑的質量越多，能吸附的污染物質量越大，吸附劑的吸附性能優越，能吸附的污染物質量越大。吸附容量的大小與濾芯面積及吸附劑本身的性能都有關系。
2、適用性(Compatibility)
要求化學過濾材料的功能性吸附材料一定要與需要去除的目標污染物匹配，才能起到充分的凈化效果。
3、潔凈度(Cleanliness)
雖然化學過濾材料不是主要去除顆粒物的裝置，但也要求其本身盡量不產生額外的顆粒物污染物，或者產生的顆粒物必須可以控制在一定合理范圍內。
4、過濾效率(Efficiency)
過濾效率是過濾材料的重要技術指標，其計算方式如公式1-1所示。過濾效率高則意味著有害氣體被去除的更干凈，隨著時間的延長，吸附劑被慢慢消耗后，而逐漸下降。由下方公式可知，過濾效率下降后，下游濃度會不斷升高，直至化學過濾材料報廢。
5、壓損(Resistance)
壓損是過濾材料重要運行指標，壓損高則電力消耗大，運行費用高。在保證吸附效率的前提下，壓損越低越好。
全方位解決空氣質量問題，保障健康與生產效率
富瑞邦生產的化學過濾材料包含除酸、除堿、除VOCs、除正丁烷、除醛等多種氣態污染物控制功能，解決了單一顆粒污染物控制不能滿足實際需求的問題，實現粉塵過濾和氣態污染物過濾的雙重高效過濾；精準的氣態污染物控制，可通過不同化學濾料高效去除不同應用環境下的目標氣態污染物；高的氣態污染物容污量，長使用壽命；較低阻力，無遞增壓損，節能環保。在芯片 /半導體/光伏電子潔凈室；化學實驗室、 化工車間、汽車裝涂；生物制藥 /化妝品制造/醫療超凈室等領域得到了廣泛應用，切實保障生活健康、生產穩定運行，提升半導體微電子行業良品率、降低成本。
